中国半导体设备公司中下述企业已具备市场化能力
中微公司：CCP刻蚀机打破美国垄断，在亚洲、欧洲的数十条生产线上交付超过1150个 反应台，其中5nm刻蚀机进入台积电产线；ICP刻蚀机面世以来快速获取订单。
北方华创：可提供IC设备品类最多的公司，包括刻蚀机、PVD、氧化炉、LPCVD、清洗机、ALD、外延设备以及气体质量 流量计等，已在多条国内外主流产线上验证和使用。
盛美上海：清洗设备
上海精测：工艺检测设备
芯源微：匀胶显影设备
沈阳拓荆：PECVD
凯世通：离子注入机
华海清科：CMP
上述设备企业可重点关注
【历史上的9月18日】
1⃣️7⃣️9⃣️3⃣️ 乔治·华盛顿为美国国会大厦（the Capitol building）安放首块基石。
1⃣️8⃣️5⃣️1⃣️ 《纽约时报》的前身《纽约日报》（The New-York Daily Times）创刊。
1⃣️8⃣️8⃣️0⃣️ 清政府派李鸿章在天津设立电报总局。
1⃣️9⃣️3⃣️1⃣️ 九一八事变爆发：日本关东军以柳条湖事件为借口，突然袭击中国军队驻地北大营和沈阳城。
1⃣️9⃣️4⃣️7⃣️ 美国中央情报局成立。
1⃣️9⃣️9⃣️8⃣️ 互联网名称与数字地址分配机构（ICANN，Internet Corporation for Assigned Names and Numbers）在美国成立，主要管理互联网的域名和IP地址分配。
2⃣️0⃣️0⃣️8⃣️ 苏联解体前最后一位领导人戈尔巴乔夫在美国受颁「自由勋章」。
#中微公司#，刻蚀设备收入大幅增长58.5%至12.9亿元。MOCVD收入大幅下滑34.5%至4.96亿元。公司加大了研发力度，研发投入6.4亿，同比大幅增长，研发占比由的22%提升至28%；研发人员增加70人至346人，同比增长25%。
刻蚀设备：CCP，公司保持竞争优势，已在多个逻辑和存储芯片厂商的生产线上量产。在先进制程逻辑芯片领域，成功取得5nm及以下逻辑电路产线的重复订单；在存储电路方面，公司的刻蚀设备在64层及128层3D NAND的生产线得到广泛应用。公司与主流客户积极合作，定义下一代CCP刻蚀机的主要功能及技术指标，正开发更先进的CCP刻蚀机产品。
ICP：在10家客户的生产线上进行验证，已有超过50个工艺在客户的生产线上达到指标要求，且持续扩大应用验证范围。尤其是 年下半年，在国内存储客户的扩产带动下，该产品的销售取得较大进展。公司正在进行下一代产品的技术研发，以满足5nm以下的逻辑芯片、1X nm的DRAM芯片和128层以上的3D NAND芯片等产品的ICP刻蚀需求。
MOVCD：公司继续发挥在蓝光LED设备的竞争优势，公司的MOCVD设备Prismo D-Blue、Prismo A7能分别实现单腔14片4英寸和单腔34片4英寸外延片加工能力。公司的Prismo A7设备已在全球氮化镓基LED MOCVD市场中占据领先地位。公司研发了用于制造深紫外光LED的高温MOCVD设备Prismo HiT3，已在行业领先客户端用于深紫外LED的生产验证并获得重复订单；制造功率器件用MOCVD已在客户芯片生产线上投入试用；用于Mini LED生产的MOCVD设备的研发工作进展顺利，已有设备在领先客户端开始进行生产验证；此外，制造Micro LED等应用的新型MOCVD设备也正在开发中。
外延发展：公司不断践行外延式发展策略，公司下属的中微汇链、中微惠创在新业务拓展领域取得了很好的进展，得到了市场和用户的高度评价。公司同时积极探索在相关领域的投资机会，完成对聚源芯星、博日科技、山东天岳、理想万里晖、中欣晶圆、昂坤视觉、德龙激光、睿励仪器等公司的投资。公司的参股投资的沈阳拓荆等项目营运表现良好，协同效应逐步呈现。
可以看出，公司是一个技术型公司，能突破顶尖的设备。但在外延发展上比较谨慎，步子较小，距离平台型公司还有不小距离。
